Beschichtungsanlage
French translation: installation CVP (de dépôt par CVP ou chimique en phase vapeur)
| GLOSSARY ENTRY (DERIVED FROM QUESTION BELOW) | ||||||
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| 15:04 Jul 25, 2015 |
| German to French translations [PRO] Tech/Engineering - Mechanics / Mech Engineering / Oberflächenbearbeitung | |||||||
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|  Selected response from: Johannes Gleim Local time: 13:27 | ||||||
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Answers
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peer agreement (net): +1installation/poste pour l'application d'un revêtement Explanation: -- |
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Installation de revêtement Explanation: Wird bei Patenten oft so gebraucht. Reference: http://www.google.fr/patents/WO2008107538A3?cl=fr |
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1 hr confidence:
installation d'enduction avec du parylène Explanation: https://www.google.fr/#q=installation d'enduction au Parylen |
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installation CVP (de dépôt par CVP ou chimique en phase vapeur) Explanation: Normalarweise würde ich auch „installation de revêtement“ sagen und „revêtement“ gegenüber „enduction“ bevorzugen, weil „enduction“ etwas mehr nach „Anstreichen“ klingt. Hier geht es aber um ein besonderes Verfahren, nämlich das Vakuumbedampfen, das bei der Beschichtung mit Parylen verwendet wird. dépôt ... | ~ par évaporation sous vide / Vakuumbedampfen (DIN 28400-4), Vakuumbeschichten enduction / Beschichten, Auftragen | (palst) / Streichverfahren | ~ à la candere (Plat) / Klanderauftrag | ~ par fusison (Tex) / Heißanstrich ... revêtement ... |~ éléctrolytique / galvanischer Überzug | ~ en CVP / PVC- Belag, PVC-Beschichtung ...| ~ de poudre / Pulverbeschichtung Als Parylene werden eine Gruppe inerte, hydrophobe, optisch transparente, polymere Beschichtungsmaterialien mit einem weiten industriellen Anwendungsspektrum bezeichnet. Neben dem Kohlenwasserstoff Poly-p-xylylen (häufig als Parylene N bezeichnet) finden auch halogenierte Polymere Anwendung. Die Beschichtung wird im Vakuum durch Kondensation aus der Gasphase als porenfreier und transparenter Polymerfilm auf das Substrat aufgetragen. Dabei ist praktisch jedes Substratmaterial wie z. B. Metall, Glas, Papier, Lack, Kunststoff, Keramik, Ferrit und Silikone mit Parylenen beschichtbar. Aufgrund der gasförmigen Abscheidung können auch Bereiche und Strukturen erreicht und beschichtet werden, welche mit flüssigkeitsbasierten Verfahren nicht beschichtbar sind, wie z. B. scharfe Ränder und Spitzen oder enge und tiefe Spalten. In einem Arbeitsgang können Beschichtungsdicken von 0,1 bis 50 µm aufgebracht werden. https://de.wikipedia.org/wiki/Parylene La principale originalité de ce revêtement réside dans son procédé de mise en œuvre, puisque obtenu à partir de la condensation de monomères gazeux sur les surfaces. Ce procédé assimilable à de la CVD (Chemical Vapor Deposition) confère à ce revêtement des propriétés inégalables en termes de conformabilité et d’uniformité. De plus, comme la déposition s’effectue à température ambiante en l'absence de solvant, il n'y a pas de stress résiduels dans le film [Dabral, 1992]. Ce film transparent, semi cristallin, d’une épaisseur de quelques dizaines de nanomètres ou pouvant dépasser les 100 μm, présente une grande stabilité thermodynamique, une excellente résistance aux solvants [Spivack, 1969] ainsi qu’une très faible perméabilité [Yeh, 1989]. Ces propriétés le rendent particulièrement intéressant en tant que couche protectrice d’éléments sensibles à leur environnement d’utilisation, comme par exemple des capteurs ou implants médicaux [Schmidt, 1988]. Enfin, ses propriétés diélectriques en font un matériau de prédilection dans des applications d’isolation électrique de tout ordre [Juneja, 2006]. Ainsi, le parylène va servir diverses industries telles que l’électronique, le médical, la micromécanique, le militaire, les ferrites, aimants ou tous autres matériaux à tendance pulvérulente, les silicones et élastomères, les micro et nanotechnologies, etc. https://fr.wikipedia.org/wiki/Parylène déposée sur la couche sacrifiée dans un réacteur au moyen d'un dépôt en phase gazeuse (CVD) et la couche sacrifiée est ensuite éliminée au moins v3.espacenet.com aufgebracht, auf der Opferschicht eine Polysiliziumschicht in einem Reaktor mittels Gasphasenabscheidung (CVD) abgeschieden und schließlich die v3.espacenet.com 2. équipements pour le dépôt en phase gazeuse d'éléments ou de composés sur des substrats filamenteux chauffés eur-lex.europa.eu 2. Ausrüstung für die Beschichtung aus der Gasphase (VD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate eur-lex.europa.eu http://www.linguee.fr/francais-allemand/search?query=dépôt e... Procédé d'enduction d'une surface d'un substrat (12) en feuille, en mouvement, de verre ou autre matière transparente, suivant lequel on fait passer ledit substrat à travers au moins une machine à enduire (20, 40) et un revêtement est formé sur une surface supérieure du substrat par dépôt en phase gazeuse par procédé chimique d'un composé formé à partir de gaz réactifs au fur à mesure … v3.espacenet.com Verfahren zum Beschichten der Oberfläche eines plattenförmigen, beweglichen Substrates (12) aus Glas oder einem anderen transparenten Material, gemäß dem das genannte Substrat durch mindestens eine Beschichtungsanlage (20, 40) geführt und mittels chemischer Bedampfung eine Schicht aus einer Verbindung aus Reaktantgasen auf einer oberen Fläche des Substrates gebildet wird, ... v3.espacenet.com Le processus E-beam, également désigné « processus PVD standard » (dépôt physique en phase gazeuse), est la technologie d'enrobage la plus couramment utilisée dans le domaine des lasers. lasercomponents.com Das E-Beam-Verfahren, welches auch als Standard PVD Verfahren (Physical Vapour Depostion) bezeichnet wird, ist die am häufigsten verwendete Beschichtungstechnologie in der Lasertechnik. lasercomponents.com Procédé de revêtement de substrats déplacés en continu au-dessus d'une électrode par dépôt de composés à partir de la phase gazeuse au moyen d'une décharge à plasma produite par l'électrode avec une réaction … v3.espacenet.com Verfahren zum Beschichten von kontinuierlich über eine Elektrode bewegten Substraten durch Abscheidung von Verbindungen aus der Gasphase mittels einer durch die Elektrode erzeugten Plasmaentladung mit einer .. v3.espacenet.com http://www.linguee.fr/francais-allemand/search?query=dépôt e... Dispositif cathodique de grande surface dans des installations d'enduction, de préférence dans des installations d'enduction par déposition en phase gazeuse par procédé physique (PVD), .. v3.espacenet.com Anordnung von großflächigen Kathoden in Beschichtungsanlagen, vorzugsweise in PVD-Beschichtungsanlagen, ... v3.espacenet.com application d'une couche de déposition en phase gazeuse par procédé physique de matériau dur sur le composant dans une unité de déposition en phase gazeuse par procédé physique et- traitement ultérieur de la structure de la surface extérieure de la couche de matériau dur, v3.espacenet.com Aufbringen einer PVD-Hartstoffschicht auf dem Bauteil in einer PVD-Beschichtungsanlage; und- strukturelles Nachbearbeiten der äußeren Oberfläche der Hartstoffschicht v3.espacenet.com Dispositif cathodique de grande surface dans des installations d'enduction, de préférence dans des installations d'enduction par déposition en phase gazeuse par procédé physique (PVD), v3.espacenet.com Anordnung von großflächigen Kathoden in Beschichtungsanlagen, vorzugsweise in PVD-Beschichtungsanlagen, v3.espacenet.com http://www.linguee.fr/francais-allemand/search?source=auto&q... 2/ LES TECHNIQUES PVD DE DEPOT PAR PULVERISATION CATHODIQUE SOUS VIDE Fig. A1-3 : Principe d’une installation de dépôt par pulvérisation : 5/ LES TECHNIQUES CVD Fig. A1-8 : Principe d’une installation CVD http://bib.rilk.com/378/01/These-Rech-annexes.pdf Figure 21 : Schéma d’une installation de dépôt par évaporation sous vide [38]. Pression: 10-5 torr, Température du substrat : 50 à 300°C, http://n.bauduin.free.fr/french/chapitre1.html de l’atelier de galvanoplastie disposant de l’expérience dans la conduite d’une installation de dépôt sous vide... pas uniquement en une photographie du présent, mais en une projection sur l’avenir, en mariant à la fois... http://www.techniques-ingenieur.fr/glossaire/depot-par-proje... Nous nous sommes ensuite concentrés sur l'étude détaillée des caractéristiques de l'installation de dépôt et de son fonctionnement, puis sur la caractérisation structurale des produits synthétisés. : Le second chapitre est consacré à la description détaillée de l'installation de dépôt utilisée … http://docnum.univ-lorraine.fr/public/INPL_T_1996_GAVILLET_J... Fig III.5 III principe d’une installation de dépôt par pulvérisation. 65 Fig III.7 III Schéma du montage d'ablation laser. 68 Fig III.8 III principe d’une installation de dépôt par CVD. https://www.google.de/url?sa=t&rct=j&q=&esrc=s&source=web&cd... Title (en) Evaporator for a CVD apparatus Title (de) Verdampfer für CVD-Anlage Title (fr) Dispositif évaporateur d'une installation de dépôt chimique en phase vapeur : Abstract (fr) Un dispositif évaporateur d'une installation de dépôt chimique en phase vapeur CVD, comprend une tête d'admission équipée au moins d'un injecteur 18 ayant une entrée 20 d'admission de précurseurs liquides 24 ou en solution https://data.epo.org/gpi/EP1098015A1-Evaporator-for-a-CVD-ap... |
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